特許

J-GLOBAL ID：200903001989829353

X線マスク

発明者： 矢部 秀毅 ,  丸本 健二 ,  吉岡 信行
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 宮田 金雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-255614
公開番号（公開出願番号）：特開2001-057338
出願日： 1992年06月08日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：

【要約】【目的】 内部応力が低く、高精度なパターン形成に適したX線吸収体を提供する。【構成】 X線マスクのX線吸収体を、タングステンと窒素と酸素を含み、アモルファス状の構造を有するものとする。

請求項（抜粋）：

X線吸収体として、タングステンと窒素と酸素を含み、アモルファス状の構造を有することを特徴とするX線マスク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G21K 1/02

FI (3件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  G21K 1/02 M