特許
J-GLOBAL ID：200903001993495559
ダウンフロー式触媒充填塔における触媒保持方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂本 徹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-115390
公開番号（公開出願番号）：特開平5-285367
出願日： 1992年04月08日
公開日（公表日）： 1993年11月02日
要約：
【要約】【目的】 触媒中における流体の均一な流れを促進するとともに、塔壁等に異常発熱による損傷を与えることなく、スクリーンの点検、補修が容易なダウンフロー式触媒充填塔における触媒保持方法および装置を提供する。【構成】 開口部(2)から搬入、搬出が可能な大きさの横断面を有し流体入口側と出口側にスクリーンを設けた複数の触媒容器(8)を充填塔(1)内に組立てる。
請求項（抜粋）：
ダウンフロー式触媒充填塔の開口部から搬入、搬出が可能な大きさの横断面を有し、流体入口側と流体出口側にそれぞれスクリーンを設けた複数の触媒容器に触媒等の充填材を充填し、該複数の触媒容器をダウンフロー式触媒充填塔内に組立てたことを特徴とするダウンフロー式触媒充填塔における触媒保持装置。
IPC (4件)：
B01J 8/00
, C01C 1/04
, C10G 31/00
, C10G 45/00
