特許

J-GLOBAL ID：200903002000636370

有機ケイ素化合物処理顔料、その製法および化粧料

発明者： 長谷川 幸夫 ,  三好 良太 ,  今井 功
出願人/特許権者： 有限会社三好化成
代理人 (1件)： 萼 経夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-173861
公開番号（公開出願番号）：特開平5-339518
出願日： 1992年06月08日
公開日（公表日）： 1993年12月21日
要約：

【要約】【構成】分子内にアミノ水素基、ハロゲン原子、水酸基またはアルコキシ基を有する直鎖状の反応性アルキルポリシロキサンを加熱処理により顔料または体質顔料の表面に配向吸着させた有機ケイ素化合物処理顔料、その製法および前記顔料を含む化粧料。【効果】本発明の処理顔料はシリコーンの吸着性が高く、残留水素がなく、非常に滑らかで、付着性が良く、微粒子である着色顔料の展色性に優れたものである。このため、本処理顔料は、パウダーファンデーション、リキッドファンデーション、ルージュ、アイシャドー等のメックアップ化粧料に配合され、品質向上に著しく貢献する。

請求項（抜粋）：

分子内にアミノ水素基、ハロゲン原子、水酸基またはアルコキシ基を有する直鎖状の反応性アルキルポリシロキサンを加熱処理により顔料または体質顔料の表面に配向吸着させたことを特徴とする有機ケイ素化合物処理顔料。

IPC (2件)：

C09C 3/12 PCH ,  A61K 7/02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭62-087237
  
• 特開平1-182368
  
• 特開平1-318070
  
• 特開平3-258866