特許
J-GLOBAL ID:200903002000955394

多孔質溶射皮膜及びその形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 塩出 真一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-097739
公開番号(公開出願番号):特開平9-263955
出願日: 1996年03月26日
公開日(公表日): 1997年10月07日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 空孔率や空孔の大きさを任意に制御することができる多孔質溶射皮膜。【解決手段】 セラミックスをコーティングしてなる炭素粉末を溶射して形成された溶射皮膜中の炭素を燃焼させて空孔を形成させた多孔質溶射皮膜。
請求項(抜粋):
セラミックスをコーティングしてなる炭素粉末を溶射して形成された溶射皮膜中の炭素を燃焼させて空孔を形成させてなることを特徴とする多孔質溶射皮膜。
IPC (4件):
C23C 22/10 ,  C04B 38/06 ,  C23C 4/02 ,  C23C 4/18
FI (4件):
C23C 22/10 ,  C04B 38/06 B ,  C23C 4/02 ,  C23C 4/18

前のページに戻る