特許
J-GLOBAL ID:200903002002968086

廃水処理方法とその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-041969
公開番号(公開出願番号):特開2000-237779
出願日: 1999年02月19日
公開日(公表日): 2000年09月05日
要約:
【要約】【課題】 発生ガスによる担体の浮上や短絡路の発生を抑え、基質や酸素の浸透、拡散を促進する等の改善方法を提供する。【解決手段】 磁性を帯びた包括固定化担体の水中位置の固定もしくはその変更動作を磁力により制御して廃水処理する。
請求項(抜粋):
磁性を帯びた包括固定化担体の水中位置の固定もしくはその変更動作を磁力により制御して廃水処理することを特徴とする廃水処理方法。
IPC (2件):
C02F 3/06 ZAB ,  C02F 3/10
FI (2件):
C02F 3/06 ZAB ,  C02F 3/10 Z
Fターム (6件):
4D003AA01 ,  4D003AA17 ,  4D003EA17 ,  4D003EA26 ,  4D003EA30 ,  4D003FA05
引用特許:
審査官引用 (4件)
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