特許
J-GLOBAL ID：200903002005679816
マスク修正装置およびマスクの修正方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-233456
公開番号（公開出願番号）：特開平7-092654
出願日： 1993年09月20日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：
【要約】【目的】 この発明は、光の回折による影響を抑え、欠陥部の高精度な修正ができるマスク修正装置等を提供することを目的とする。【構成】 内辺部に沿って、透過光の位相を1/2波長だけ変える位相板12を有した2枚のL形遮光板10,10を組み合わせて、可変形スリット14を形成する。一対のL形遮光板10,10に光を照射すると、この光は可変形スリット14中を通過するとともに、一部の光は位相板12を透過する。また、この場合、L形遮光板10の位相板12側に回り込む回折光が生じる。ところが、位相板12の透過光は位相が1/2波長だけずれているため、この透過光と回折光とがエネルギー的に相殺される。したがって、回折光の無い状態での欠陥部Kの修正が可能となる。
請求項（抜粋）：
修正用のスリットを通過した光をマスクのパターン上の欠陥部に集光照射して、この欠陥部を除去するマスク修正装置において、前記修正用のスリットが、透過光の位相を1/2波長だけ変える位相板を内辺部に沿って有した2枚のL形遮光板を組み合わせて形成される可変形スリットであることを特徴とするマスク修正装置。
IPC (2件)：
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