特許

J-GLOBAL ID：200903002009104613

高気孔率のシリカキセロゲルおよびその製造方法

発明者： ルイジ、バルドウッチ ,  フランコ、モンティノ ,  グイド、コリャティ
出願人/特許権者： イスティテュート、グイド、ドネガニ、ソチエタ、ペル、アツィオーニ
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-306037
公開番号（公開出願番号）：特開平5-213614
出願日： 1992年10月19日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 高気孔率および調整された細孔径分布を有するシリカキセロゲルを提供する。その様な製品は、工業の多くの分野で吸収材、充填材、触媒および/または他の金属系の支持体、補強材、増粘剤、顔料または塗料中のチキソトロピー剤、熱および/または音の絶縁材等の用途として使用される。【構成】 シリカアルコゲルを、アミノ基および水酸基を含む有機化合物の存在下で熱処理し、未反応の有機化合物を濾別、アルコール洗浄し、得られたキセロゲルを乾燥、 焼させてシリカキセロゲルを得る。このキセロゲルは、総細孔容積が2cc/g以上で、平均細孔直径が100オングストローム以上である。

請求項（抜粋）：

下記の工程、即ち1)シリカアルコゲルを、少なくとも一つの有機化合物(I)と混合し、SiO2 -アルコール-(I)混合物(A)を得る工程、2)蒸留によりアルコールを除去し、SiO2 -(I)混合物(B)を得る工程、3)100〜250°Cの温度で熱処理することにより、(I)の幾つかの分子の水酸基がシリカのシラノール基(SI-OH)とエステル化しているSiO2 -(I)混合物(C)を得る工程、4)前記第3工程の熱処理の際に反応しなかった有機化合物(I)の大部分を濾別し、アルコールで繰り返し洗浄し、第3工程の際にエステル化された(I)の分子および洗浄アルコールの吸着されて残っている部分を含むキセロゲル(D)を得る工程、5)前記第4工程で得た生成物(D)を乾燥させ、吸着アルコールを含まないキセロゲル(D)を得る工程、および6)前記第5工程で得たキセロゲル(D)を酸化雰囲気中で400〜600°Cの温度でか焼する工程からなるアルコゲルからシリカキセロゲルを製造するための方法であって、有機化合物(I)が、一般式(式中、R1 は水素原子または-CH3 、-C2 H5 、-C3 H7 、-C4 H9R2 は、二価のエチレン、プロピレン、イソプロピレン、ブチレンまたはイソブチレン基である)に属するアルカノールアミンであることを特徴とする方法。

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 特表平6-510268
  
• 特開平2-111616
  
• 特開昭64-018910
  
• 特開平2-164705
  
• 特許第2170189号