特許

J-GLOBAL ID：200903002010849720

光触媒反応膜の形成方法及び光触媒反応膜

発明者： 久保田 伸彦 ,  綾部 統夫 ,  田中 瑞乃 ,  根目沢 礼和
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-141906
公開番号（公開出願番号）：特開平11-333298
出願日： 1998年05月22日
公開日（公表日）： 1999年12月07日
要約：

【要約】【課題】 任意の構造材の表面に光触媒反応膜を形成するとともに、光触媒反応面積を飛躍的に大きくし、光触媒反応効率の向上を図り、光触媒反応膜の保持性を高める。【解決手段】 構造材における被処理表面に光触媒反応膜を形成する場合に、被処理表面に軟質層を配しておき、該軟質層の上に光触媒粒子を介在させて、光触媒粒子の一部を軟質層に食い込ませる技術が採用される。

請求項（抜粋）：

構造材(1)における被処理表面(1a)に光触媒反応膜(6)を形成する方法であって、被処理表面に軟質層(2)を配しておき、該軟質層の上に光触媒粒子(3)を介在させて、光触媒粒子の一部を軟質層に食い込ませることを特徴とする光触媒反応膜の形成方法。

IPC (3件)：

B01J 35/02 ,  A61L 2/16 ,  B32B 3/16

FI (3件)：

B01J 35/02 J ,  A61L 2/16 Z ,  B32B 3/16

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 貼付用光触媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-138430   出願人：三井金属鉱業株式会社, 藤嶋昭, 橋本和仁
• 親水性又は光触媒活性を有する基材及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-137830   出願人：東陶機器株式会社
• 光触媒体および照明器具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-073864   出願人：東芝ライテック株式会社
• 光触媒作用を有する部材の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-313967   出願人：東陶機器株式会社