特許
J-GLOBAL ID：200903002012589857
真空処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-089342
公開番号（公開出願番号）：特開平6-275703
出願日： 1993年03月24日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：
【要約】【目的】 真空容器を構成する容器本体及び容器本体の開口部を閉塞する下部プレートを外面から加熱することによりベーキングを行うことができる真空処理装置を提供する。【構成】 ウエハ等の被処理材を入れて搬送する真空容器1と、この真空容器1に接続可能であり前記被処理材を真空容器1との間で出し入れするロードロック室10と、このロードロック室10にゲートバルブを介して接続され前記被処理材に真空処理を施す真空プロセス室39とを備えた真空処理装置において、前記真空容器1の容器本体を外面から加熱する容器本体用ヒータ4と、前記容器本体の下部開口を開閉可能に閉塞する下部プレート3を外面から加熱する下部プレート用ヒータ20とを備えた。
請求項（抜粋）：
ウエハ等の被処理材を入れて搬送する真空容器と、この真空容器に接続可能であり前記被処理材を真空容器との間で出し入れするロードロック室と、このロードロック室にゲートバルブを介して接続され前記被処理材に真空処理を施す真空プロセス室とを備えた真空処理装置において、前記真空容器の容器本体を外面から加熱する容器本体用ヒータと、前記容器本体の下部開口を開閉可能に閉塞する下部プレートを外面から加熱する下部プレート用ヒータとを備えたことを特徴とする真空処理装置。
IPC (2件)：
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