特許

J-GLOBAL ID：200903002017144390

水溶性高分子電解質の製造方法及び水溶性高分子電解質

発明者： 稲垣 靖史 ,  渡辺 春夫 ,  野口 勉
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-256983
公開番号（公開出願番号）：特開平10-101732
出願日： 1996年09月27日
公開日（公表日）： 1998年04月21日
要約：

【要約】【課題】 ポリスチレン系樹脂(廃材)を、低分子量の水溶性スルホン化ポリスチレンに改質する。【解決手段】 ポリスチレン系樹脂をスルホン化して水溶性のスルホン化ポリスチレンに改質するに際して、過酸化物を添加する。

請求項（抜粋）：

ポリスチレン系樹脂をスルホン化して水溶性のスルホン化ポリスチレンに改質するに際して、過酸化物を添加することを特徴とする水溶性高分子電解質の製造方法。

IPC (3件)：

C08F 8/36 ,  C08F 8/50 ,  C08L 25/18

FI (3件)：

C08F 8/36 ,  C08F 8/50 ,  C08L 25/18

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平1-104335
  
• 特開昭59-184205