特許

J-GLOBAL ID：200903002064399185

薄膜磁気ヘッドとその製造方法

発明者： 那須 昌吾 ,  長谷川 博幸 ,  長谷川 賢治 ,  武田 裕美 ,  高橋 健
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-350570
公開番号（公開出願番号）：特開2003-151107
出願日： 2001年11月15日
公開日（公表日）： 2003年05月23日
要約：

【要約】【課題】 磁気テープに適用できる程度に耐摺動性に優れた薄膜磁気ヘッドを提供する。【解決手段】 下地膜の表面をフッ素含有炭素化合物または窒素含有化合物を含有する雰囲気に曝してから、フッ素または窒素を添加したタイヤモンド状炭素(DLC)膜を形成する。下地膜の基板側に酸素含有層を設けても耐摩耗性が向上する。この場合、酸素含有層は、下地膜膜厚の10〜70%に相当するSiO<SB></SB><SB>x</SB>(ただし、0<x<0.5)とする。酸素イオンによるアシスト処理を行いながらDLC膜を成膜してもよい。下地膜の表面に炭化水素を含有する雰囲気中でイオンビームを照射してからDLC膜を成膜してもよい。下地膜の表面に金属微粒子を形成してからDLC膜を形成してもよい。

請求項（抜粋）：

磁気記録媒体との摺動面を有し、前記摺動面において基体上に下地膜およびダイヤモンド状炭素膜がこの順に形成された薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記下地膜の表面を、フッ素含有炭素化合物を含有する雰囲気に曝してから、前記表面に、フッ素を添加したダイヤモンド状炭素膜を形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

Fターム (7件)：

5D033BA11 ,  5D033BA15 ,  5D033CA03 ,  5D033DA01 ,  5D033DA02 ,  5D033DA03 ,  5D033DA31