特許
J-GLOBAL ID：200903002082597377
積層膜の膜厚測定方法及びその装置、並びに、磁気記録媒体の製造方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-154701
公開番号（公開出願番号）：特開平11-344325
出願日： 1998年06月03日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：
【要約】【課題】 重層塗布型の磁気記録媒体における上層磁性層の膜厚を迅速かつ高精度にコントロールし、均一化すること。【解決手段】 上層磁性層3と、非磁性層又は磁性層からなる下層2とを有する磁気記録媒体1を製造するに際し、上下各層の回折X線の強度検出を行い、予め作成された検量線に基づいて、上層3及び下層2の膜厚を換算し、この膜厚情報に基づいて成膜時の上層膜厚d1 及び下層膜厚d2 をコントロールする。
請求項（抜粋）：
第1層と第2層とを有する積層膜における前記第1層、前記第2層の膜厚を測定するに際し、X線回折によって前記第1層、前記第2層の膜厚を測定する、積層膜の膜厚測定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B 15/02 A
, G11B 5/84 Z
