特許

J-GLOBAL ID：200903002095289345

カラーフィルターおよび液晶表示装置の製造法

発明者： 鈴木 為之 ,  久保 晟
出願人/特許権者： 神東塗料株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-165988
公開番号（公開出願番号）：特開平8-006011
出願日： 1994年06月23日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 着色塗膜等が塗着されていないシール部を有してなるカラーフィルターを工業的有利に製造し、高画質の液晶表示装置を製造する。【構成】 (e)(c)の工程で現像後に残存する光透過率が中の部分のフォトレジスト層3を現像、除去することによってシール部8以外の光透過率が小の部分のフォトレジスト層を細片状に形成し、(f)シール部を除く該基板の全面に遮光性のネガ型フォトレジスト組成物を塗布してネガ型レジスト層7を形成し、(g)基板1の裏面より露光後、現像することによってネガ型レジスト層の未露光部分および(e)の工程で細片状に形成されたフォトレジスト層を除去して透明導電層2の表面を露出し、(h)現像後に残存するネガ型レジスト層を硬化し、(i)(g)の工程で露出した細片状の透明導電層上に電着により着色層を形成する。

請求項（抜粋）：

透明基板上に細片状の着色塗膜とその間隙に遮光性塗膜とを有し、且つ、それらの塗膜が形成されていないシール部を有してなるカラーフィルターの製造法において、(a)透明材料からなる基板上に透明導電層を形成し、(b)該透明導電層上に遮光性のポジ型フォトレジスト組成物を塗布してフォトレジスト層を形成し、(c)該フォトレジスト層を所定のパターンを有し、且つ、光透過率が大、中および小の三段階に異なるフォトマスクを介して露光後、光透過率が大の部分のフォトレジスト層を現像除去して透明導電層表面を露出させ、(d)露出した透明導電層をエッチング除去することによって透明導電層を回路状に形成するとともに、回路状に形成された透明導電層を下層としフォトレジスト層を上層とする積層を設けてなる基板を形成し、(e)(c)の工程で現像後に残存する光透過率が中の部分のフォトレジスト層を現像除去することによってシール部以外の光透過率が小の部分のフォトレジスト層を細片状に形成し、(f)シール部を除く該基板の全面に遮光性のネガ型フォトレジスト組成物を塗布してネガ型レジスト層を形成し、(g)該基板の裏面より露光後、現像することによってネガ型レジスト層の未露光部分および(e)の工程で細片状に形成された光透過率が小のフォトレジスト層を除去して透明導電層の表面を露出し、(h)現像後に残存するネガ型レジスト層を硬化し、(i)(g)の工程で露出した細片状の透明導電層上に電着により着色層を形成し、次いで(j)シ-ル部の光透過率が小のフォトレジスト層を除去することを特徴とする方法。

IPC (2件)：

G02F 1/1335 505 ,  G02B 5/20 101