特許

J-GLOBAL ID：200903002107865223

加熱装置及び画像形成装置

発明者： 後藤 正弘 ,  竹田 正美 ,  内藤 順仁 ,  鈴見 雅彦
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-163387
公開番号（公開出願番号）：特開平10-340020
出願日： 1997年06月05日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：

【要約】【課題】 可撓性の基板上に発熱体パターンを形成した加熱用ヒータを具備したことによりフィルムへの応力を抑え、装置の高速化、高耐久化を可能とした加熱装置及び画像形成装置を提供すること。【解決手段】 被加熱材Pを、加熱部材と加圧部材11との圧接によって形成されたニップ部N内を通過させることにより加熱処理する加熱装置6において、上記加熱部材が、移動駆動されるフィルム10と、該フィルム10のニップ部Nと反対側の面と接して固定配置された加熱用ヒータ12とを具備し、該加熱用ヒータ12が可撓性を有する基板12b上に発熱体パターン12aを形成されていること。

請求項（抜粋）：

被加熱材を、加熱部材と加圧部材との圧接によって形成されたニップ部内を通過させることにより加熱処理する加熱装置において、上記加熱部材が、移動駆動されるフィルムと、該フィルムのニップ部と反対側の面と接して固定配置された加熱用ヒータとを具備し、該加熱用ヒータが可撓性を有する基板上に発熱体パターンを形成されていることを特徴とする加熱装置。

IPC (3件)：

G03G 15/20 101 ,  H05B 3/00 335 ,  H05B 3/54

FI (3件)：

G03G 15/20 101 ,  H05B 3/00 335 ,  H05B 3/54