特許
J-GLOBAL ID:200903002130927708
グラフトポリマーパターン形成方法、導電性パターン形成方法、及び有機EL表示装置
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-095601
公開番号(公開出願番号):特開2008-257892
出願日: 2007年03月30日
公開日(公表日): 2008年10月23日
要約:
【課題】基材との密着性に優れたグラフトポリマーパターンを、基材表面の所望の領域にのみ簡便に形成しうるグラフトポリマーパターン形成方法、エッチング工程を行うことなく微細な導電性パターンの形成が可能であり、且つ、基材表面の凹凸が少ない場合であっても基材との密着性に優れた導電性パターンを形成しうる導電性パターン形成方法を提供する。【解決手段】(a)基材上に光ラジカル発生剤を含有する組成物をパターン状に直接付与する工程、(b)光ラジカル発生剤を基材に固定化する工程、及び、(c)固定化された前記光ラジカル発生剤を有する基材表面に、重合性の二重結合を有する化合物を接触させた後、該基材表面にエネルギーを付与して、固定化された光ラジカル発生剤が存在する領域にグラフトポリマーパターンを形成する工程、を有することを特徴とするグラフトポリマーパターン形成方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(a)基材上に光ラジカル発生剤を含有する組成物をパターン状に直接付与する工程、
(b)前記光ラジカル発生剤を基材に固定化する工程、及び、
(c)固定化された前記光ラジカル発生剤を有する基材表面に、重合性の二重結合を有する化合物を接触させた後、該基材表面にエネルギーを付与して、固定化された光ラジカル発生剤が存在する領域にグラフトポリマーパターンを形成する工程、
を有することを特徴とするグラフトポリマーパターン形成方法。
IPC (11件):
H05B 33/10
, H05K 3/18
, H05K 3/10
, C08F 299/00
, C08L 63/00
, C08K 5/00
, C08G 59/20
, C23C 18/16
, H01L 51/50
, H05B 33/26
, G03F 7/004
FI (11件):
H05B33/10
, H05K3/18 B
, H05K3/10 D
, C08F299/00
, C08L63/00 C
, C08K5/00
, C08G59/20
, C23C18/16 A
, H05B33/14 A
, H05B33/26 Z
, G03F7/004 521
Fターム (106件):
2H025AA02
, 2H025AA14
, 2H025AB14
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC13
, 2H025BC53
, 2H025BC85
, 2H025CA30
, 2H025EA01
, 2H025FA01
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC03
, 3K107CC12
, 3K107CC21
, 3K107CC25
, 3K107CC45
, 3K107DD39
, 3K107DD47Z
, 3K107FF03
, 3K107GG08
, 3K107GG11
, 3K107GG22
, 4J002CC022
, 4J002CD021
, 4J002CD051
, 4J002CD194
, 4J002CH083
, 4J002EE036
, 4J002GQ01
, 4J036AA04
, 4J036AD08
, 4J036AK11
, 4J036DC41
, 4J036FB08
, 4J036FB09
, 4J036FB12
, 4J036JA09
, 4J127AA06
, 4J127BB041
, 4J127BB081
, 4J127BB221
, 4J127BC031
, 4J127BC151
, 4J127BD061
, 4J127BE34X
, 4J127BE341
, 4J127BE51Y
, 4J127BE511
, 4J127BG16X
, 4J127BG161
, 4J127BG17Y
, 4J127BG171
, 4J127BG27Y
, 4J127BG271
, 4J127CA01
, 4J127EA12
, 4J127FA38
, 4K022AA03
, 4K022AA15
, 4K022AA16
, 4K022AA18
, 4K022AA32
, 4K022AA42
, 4K022BA03
, 4K022BA08
, 4K022BA14
, 4K022BA17
, 4K022BA18
, 4K022BA21
, 4K022BA35
, 4K022CA06
, 4K022CA07
, 4K022CA12
, 4K022CA14
, 4K022CA20
, 4K022CA21
, 4K022CA26
, 4K022DA01
, 4K022DB04
, 4K022DB05
, 4K022DB06
, 4K022DB07
, 5E343AA02
, 5E343AA17
, 5E343AA18
, 5E343AA26
, 5E343BB24
, 5E343BB25
, 5E343BB28
, 5E343BB43
, 5E343BB44
, 5E343BB45
, 5E343BB48
, 5E343BB76
, 5E343DD12
, 5E343DD33
, 5E343ER02
, 5E343FF05
, 5E343FF17
, 5E343GG02
, 5E343GG08
引用特許:
前のページに戻る