特許
J-GLOBAL ID:200903002133211304

多孔物質の細孔サイズ選択的修飾法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小林 孝次
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-510378
公開番号(公開出願番号):特表平8-502534
出願日: 1993年10月21日
公開日(公表日): 1996年03月19日
要約:
【要約】多孔物質の細孔サイズの選択的化学修飾法について開示している。この方法で得られる新規な物質は、クロマトグラフィーにおける分離媒体として、また選択的分離、吸着および触媒として特に有効である。
請求項(抜粋):
細孔中に反応基を有する多孔物質を、修飾剤が入り込むのに十分な大きさの細孔のみに透過する大きさを有し、修飾剤が透過する細孔中にある反応基だけを化学的に修飾する修飾剤で処理することを特徴とする多孔物質の細孔サイズ選択的化学修飾法。
IPC (2件):
C08J 9/40 ,  B01D 67/00

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