放射システムおよびリソグラフィ装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：稲葉良幸 , 大賀眞司 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-308494
公開番号（公開出願番号）：特開2007-194590
出願日： 2006年11月15日
公開日（公表日）： 2007年08月02日
要約：

【課題】放射源からの汚染物質を閉じ込める汚染障壁として機能するフォイルトラップの温度を監視することにより、フォイルトラップの温度を許容範囲内に保つことができる放射線システムを提供する。【解決手段】放射線ビームを発生させる放射線システム1は、極端紫外線3を発生させる極端紫外放射源2、放射源2からの汚染を閉じ込めるフォイルトラップ4、フォイルトラップ4からの放射熱を収集するヒートシンクとして作用する金属プレート7、金属プレート7の温度を検出する熱電対センサ9を含む。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

放射ビームを発生させるための放射システムであって、極端紫外線を発生させる極端紫外放射源と、放射源からの汚染を閉じ込める汚染障壁と、前記汚染障壁の温度を測定する温度センサと、を備えた放射システム。

IPC (6件)：

H01L 21/027 , G21K 1/00 , G21K 5/02 , G01J 5/12 , G01K 1/14 , G01K 7/02

FI (6件)：

H01L21/30 531S , G21K1/00 X , G21K5/02 X , G01J5/12 , G01K1/14 L , G01K7/02 Z

Fターム (5件)：

2F056CL01 , 2G066AC20 , 2G066BA08 , 2G066BC23 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (1件)

欧州特許第1491963号

審査官引用 (34件)

少なくとも一つの光学要素を洗浄する方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-530881 出願人：コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法、並びにそれによって製造されたデバイス
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-007226 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
X線装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-046288 出願人：株式会社ニコン

全件表示

前のページに戻る