特許

J-GLOBAL ID：200903002141787487

薄膜作製装置及び薄膜作製方法

発明者： 高内 英規
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-031155
公開番号（公開出願番号）：特開平5-230625
出願日： 1992年02月19日
公開日（公表日）： 1993年09月07日
要約：

【要約】【目的】 薄膜作製装置及び薄膜作製方法に関し,内部の特性が均一で特性の再現性のよい薄膜を得るための装置と方法を目的とする。【構成】 真空チャンバ1と, 真空チャンバ1内に配置されたターゲット2及び成長基板3と, ターゲット2を動かす手段と,ターゲット2表面にエネルギービームを照射して表面物質を飛散させ,成長基板3上に堆積させる手段と,ターゲット2表面のエネルギービームが照射された領域を,真空を破らずに除去して新しい表面を露出する手段とを備えた薄膜作製装置により構成する。また,前記の薄膜作製装置を使用して,ターゲット2を動かしながらターゲット2表面にエネルギービームを照射して表面物質を飛散させ,成長基板3上に堆積し,その後エネルギービームが照射された表面領域に再びエネルギービームが照射される前に,その表面領域を真空を破らずに除去して新しい表面を露出しておく方法により構成する。

請求項（抜粋）：

真空チャンバ(1) と,該真空チャンバ(1) 内に配置されたターゲット(2) 及び成長基板(3) と,該ターゲット(2) を動かす手段と,該ターゲット(2) 表面にエネルギービームを照射して表面物質を飛散させ,該成長基板(3) 上に堆積させる手段と,該ターゲット(2) 表面のエネルギービームが照射された領域(2a)を,真空を破らずに除去して新しい表面を露出する手段とを備えたことを特徴とする薄膜作製装置。

IPC (2件)：

C23C 14/22 ,  C23C 14/28

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭54-155637
  
• 特開昭58-146689