フォトマスクの欠陥検査方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉村暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-169117
公開番号（公開出願番号）：特開平7-128841
出願日： 1993年07月08日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：

【要約】【目的】フォトマスクの欠陥検査を全自動で行なうことができるフォトマスクの欠陥検査装置を提供する。【構成】ガラス基板にマスクパターンを形成する際マスクパターンの形成条件を表わすアラインメントマークを同時に基板に形成する。欠陥検査に際し光学走査によってアラインメントマークを読み出し、マスクパターンの形成条件を求め、求めたマスクパターンの形成条件に基いて検査条件を設定する。

請求項（抜粋）：

透明基板上にマスクパターンが形成されているフォトマスクの欠陥を検査するに際し、透明基板上にマスクパターンを形成する際マスクパターンの形成条件を表わすアラインメントマークを、前記透明基板のマスクパターンが形成されていない領域にx方向及びこれと直交するy方向に沿って形成し、各マスクパターンの欠陥を検査する際、前記透明基板のアラインメントマークが形成されている領域を光学的に走査して各アラインメントマークの種類及び形成位置を順次検出し、検出したアラインメントマークの種類及び形成位置に基いて欠陥検査条件を求め、求めた欠陥検査条件に従ってフォトマスクの欠陥を検査することを特徴とするフォトマスクの欠陥検査方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G01N 21/88 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭60-021523
特開昭60-083328

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