特許

J-GLOBAL ID：200903002161759889

レーザ加工装置及びレーザ加工方法並びに液晶パネル

発明者： 尼子 淳 ,  曽根原 富雄
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-172687
公開番号（公開出願番号）：特開平8-033993
出願日： 1994年07月25日
公開日（公表日）： 1996年02月06日
要約：

【要約】【目的】基板上に被着させた薄膜を精密かつ高速に加工するレーザ加工装置および加工方法を提供し、これらによりパターニングされた電極構造を有する液晶パネルを提供する。【構成】本発明のレーザ加工装置は、複数のパルスレーザ発振器と、前記複数のレーザ発振器のそれぞれの発振サイクルの位相をずらして前記複数のレーザ発振器を順次駆動する手段と、前記複数のレーザ発振器からのビームの品質を同じにする手段と、前記複数のレーザ発振器からのビームを楕円偏光にする手段と、前記複数のレーザ発振器から出射されるビームを受ける光インテグレータと、前記光インテグレータから出射されるビームを受ける振幅マスクと、前記振幅マスクを通過するビームを複数のビームに分岐する手段と、前記振幅マスクの実像を被加工物上に結像する手段とを備え、前記分岐する手段と前記結像する手段により得られた複数の実像を被加工物に選択的に照射することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

少なくとも、複数のパルスレーザ発振器と、前記複数のパルスレーザ発振器のそれぞれの発振位相をずらして前記複数のパルスレーザ発振器を順次駆動する手段と、前記複数のパルスレーザ発振器から出射されるビームの光路を一致させる手段と、少なくともひとつの振幅マスクと、前記振幅マスクを通過するビームを複数のビームに分岐する手段と、前記振幅マスクの実像を被加工物上に結像する手段を備え、前記振幅マスクの複数の実像を被加工物に照射することを特徴とするレーザ加工装置。

IPC (5件)：

B23K 26/00 330 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  G02F 1/1343 ,  H01S 3/127

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-009293
  
• 特開平1-254392
  
• 特開平4-105781