特許
J-GLOBAL ID：200903002166010290

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
横森 正幸

横森 正幸 について

, 
黒田 修

黒田 修 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-398476
公開番号（公開出願番号）：特開2002-198414
出願日： 2000年12月27日
公開日（公表日）： 2002年07月12日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 搬入出部と処理部との間で複数の被処理基板を一括して搬送する際に、待機時間を極力少なくしてスループットを向上することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。【解決手段】 基板処理装置は、処理前の複数の被処理基板Wを等間隔で配列収納した容器Cから被処理基板Wを取り出す取り出し部14と、取り出し部14において2つの容器Cから取り出された被処理基板Wを容器Cの被処理基板配列ピッチの半分のピッチで配列する基板配列部51a,51b,60と、基板Wに対して所定の処理を施す処理部と、基板配列部51a,51b,60により配列された基板Wを処理部へ搬送する搬送手段と、基板配列手段により配列された被処理基板を一時待機する待機部75とを具備する。
請求項（抜粋）：
処理前または処理後の複数の被処理基板を収納した容器を搬入または搬出する容器搬入出部と、前記容器から取り出された複数の被処理基板に対して処理を施す処理部と、前記容器搬入出部と前記処理部との間で複数の被処理基板を搬送する基板搬送部と、前記基板搬送部で搬送される複数の被処理基板を容器から出した状態で一時待機させておく待機部とを具備することを特徴とする基板処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/68 ,  B05C 13/02 ,  B05D 3/00 ,  B25J 15/00 ,  B25J 15/08 ,  H01L 21/306
FI (6件)：
H01L 21/68 D ,  B05C 13/02 ,  B05D 3/00 C ,  B25J 15/00 D ,  B25J 15/08 D ,  H01L 21/306 J
Fターム (53件)：
3C007DS06 ,  3C007ES03 ,  3C007ET03 ,  3C007EV07 ,  3C007EV18 ,  3C007EV24 ,  3C007NS09 ,  3C007NS17 ,  3F061AA04 ,  3F061BA03 ,  3F061BB03 ,  3F061BE12 ,  3F061BE32 ,  3F061BE44 ,  3F061DB04 ,  3F061DB06 ,  4D075AC64 ,  4D075AC73 ,  4D075AC78 ,  4D075AC93 ,  4D075CA47 ,  4D075DA08 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075DC24 ,  4D075EA45 ,  4F042AA07 ,  4F042AA10 ,  4F042DF07 ,  4F042DF15 ,  4F042DF21 ,  4F042DF25 ,  4F042DF29 ,  4F042DF34 ,  5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA09 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031FA19 ,  5F031FA25 ,  5F031GA10 ,  5F031GA15 ,  5F031GA49 ,  5F031MA23 ,  5F031PA26 ,  5F043AA31 ,  5F043BB22 ,  5F043BB27 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 特許第2634350号
  • 特開平2-144333
  • 処理装置及び処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-148571   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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審査官引用 (6件)
  • 特許第2634350号
  • 特許第2634350号
  • 特開平2-144333
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