特許
J-GLOBAL ID:200903002173113216

半導体装置製造における実績表示方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 内原 晋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平2-403021
公開番号(公開出願番号):特開平5-012300
出願日: 1990年12月18日
公開日(公表日): 1993年01月22日
要約:
【要約】【構成】半導体装置の製造ラインにおける各設備に端末機を備え、各設備における作業数,作業日時及び工程に係る情報をホストコンピュータに報告するステップ5と、各設備のそれぞれの工程での作業処理データを3次元のリレーショナルデータベースにより随時処理し、データ追加及び更新するステップ6と、日時毎に処理する作業数及び目標達成度を図式的に一画面に表示するステップ7とを含んで構成される。【効果】製造ラインにおける各設備の稼働状況及び製品の進捗状況をより早く、適確に把握出来る。
請求項(抜粋):
複数の工程を同一製造設備群で処理する半導体装置製造における実績表示方法において、各設備に情報をホストコンピュータに転送する端末機を備え、前記各設備の作業開始及び終了時に作業数,作業日時及び作業工程に係る情報を前記端末機と前記ホストコンピュータとで交換するステップと、前記ホストコンピュータが前記情報データを3次元のリレーショナルデータベースで随時にデータの追加及び更新を行うステップと、追加及び更新された数値を図式的に表示端末機の一画面に描画するステップとを含んで構成されることを特徴とする半導体装置製造における実績表示方法。
IPC (2件):
G06F 15/21 ,  H01L 21/02

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