特許

J-GLOBAL ID：200903002173205374

高周波プラズマ発生方法と装置

発明者： 戸泉 厚 ,  甲斐 隆行
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-258334
公開番号（公開出願番号）：特開2004-096019
出願日： 2002年09月04日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

【課題】反応生成物などによってインピーダンス整合の位置が変化しても、効率良く整合のとれたプラズマを発生させる。【解決手段】プロセス処理条件ごとに過去のインピーダンス整合値を記憶しておき、その変化に応じてプロセス処理のスタート時のインピーダンス整合のプリセット値を自動的に設定するようにし、チャンバ内部の変化により整合範囲が変化してもそれに追随して効率良く整合をとることができるようにした。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

チャンバ内でプラズマ処理を行なった際に、インピーダンス整合機の整合値を各プロセス処理条件毎に記憶しておき、各プロセス処理のスタート時にそのプロセス処理条件の以前の整合値の記憶に基づいて整合値のプリセット値を設定することを特徴とする高周波プラズマ発生方法。

IPC (4件)：

H01L21/3065 ,  C23C16/505 ,  H01L21/205 ,  H05H1/46

FI (4件)：

H01L21/302 101G ,  C23C16/505 ,  H01L21/205 ,  H05H1/46 R

Fターム (12件)：

4K030FA01 ,  4K030JA00 ,  4K030KA30 ,  4K030KA41 ,  4K030LA00 ,  5F004BB13 ,  5F004CA08 ,  5F004CB07 ,  5F045AA08 ,  5F045BB08 ,  5F045EH19 ,  5F045GB16