特許

J-GLOBAL ID：200903002176440501

化学増幅系レジスト組成物

発明者： 梶田 徹 ,  小林 英一 ,  村田 誠 ,  三浦 孝夫
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-236927
公開番号（公開出願番号）：特開平6-083058
出願日： 1992年09月04日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：

【要約】【構成】 オニウム塩とスルフィド類および/またはハロゲン化芳香族化合物を含有する化学増幅系レジスト組成物。【効果】 化学増幅系レジストで、解像度および残膜率等を損なうことなく、高感度を実現できる。

請求項（抜粋）：

(a)酸の作用で化学反応を起こして組成物のアルカリ可溶性を促進あるいは抑制する化合物または酸の作用で化学反応を起こしてアルカリ可溶あるいは不溶となる化合物、(b)放射線に感応して酸を発生するオニウム塩、ならびに(c)下記構造式(1)【化1】で示されるスルフィド類および/または下記構造式(2)【化2】で示されるハロゲン化芳香族化合物、を含有することを特徴とする化学増幅系レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027