特許

J-GLOBAL ID：200903002176538803

識別データー記載シリコン基板およびその製造方法

発明者： 佐藤 一男
出願人/特許権者： 佐藤 一男
代理人 (1件)： 吉川 勝郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-055980
公開番号（公開出願番号）：特開平11-238656
出願日： 1998年02月20日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：

【要約】【課題】 硬く透明なシリコンの表面に、多量のデーターを記録できる二次元コードを形成して、シリコンウエハーや小さな半導体チップを個別に管理することができる識別データー記載シリコン基板およびその製造方法を提供するものである。【解決手段】 シリコンウエハー1の表面に、レーザービームを照射して半円球状の凹部5を加工して平面円形の丸ドット12を形成し、この丸ドット12を縦横に複数個マトリックス状に配置して明模様の単位セル4aを形成し、レーザービームを照射していない平滑面を暗模様の単位セル4bとして、これら明暗の単位セルを組合わせて明暗模様のマトリックスによる二次元コード3を形成したことを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

シリコン基板の表面に、平滑面を暗模様の単位セルとし、散乱面を明模様の単位セルとして、これら明暗の単位セルを組合わせて明暗模様のマトリックスによる二次元コードを形成したことを特徴とする識別データー記載シリコン基板。