紫外線カット膜とその成膜用ターゲットおよびその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：泉名謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-217214
公開番号（公開出願番号）：特開平7-070743
出願日： 1993年09月01日
公開日（公表日）： 1995年03月14日
要約：

【要約】【構成】セリウム成分が10モル%〜90モル%に対して、チタン成分を90モル%〜10モル%含み、ターゲットの体積抵抗が100000Ω・cm以下であるスパッタリングターゲットとその製造方法および該ターゲットを用いて成膜される紫外線カット膜。【効果】DCスパッタリングで成膜することが可能となり、大面積にわたり、高速で安定的に紫外線カット特性を示す透明薄膜を安価に提供できる。

請求項（抜粋）：

セリウム(Ce)とチタン(Ti)と酸素(O)によって構成されるスパッタリング用ターゲットの製造方法において、Ceおよび/またはCeO<SB>x</SB> (0<x≦2)からなる粉末とTiおよび/またはTiO<SB>y</SB> (0<y≦2)からなる粉末との混合粉末を非酸化性雰囲気中で高圧プレスした後、焼成することを特徴とするスパッタリング用ターゲットの製造方法。

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