特許
J-GLOBAL ID：200903002204590018
触媒の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-263272
公開番号（公開出願番号）：特開平9-103687
出願日： 1995年10月11日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：
【要約】【課題】担持されている触媒金属粒子の粒径を短時間で任意に制御可能とし、かつ触媒金属粒子の粒径の分布を狭くする。【解決手段】酸化雰囲気と非酸化雰囲気が交互に繰り返される雰囲気中で触媒を酸化又は非酸化処理することで、担持されている触媒金属の粒径を制御する。Ptは酸化雰囲気で担体上を移動しやすく凝集しやすい。一方還元雰囲気では担体上を移動しにくく粒子径が均一となりやすい。この両方の反応が交互に行われることにより、粒径及び粒径分布を制御することができる。
請求項（抜粋）：
触媒担体に触媒金属を担持して触媒金属担持担体とする担持工程と、酸化雰囲気と非酸化雰囲気が交互に繰り返される雰囲気中で該触媒金属担持担体を繰り返し酸化及び非酸化処理して、担持されている該触媒金属の粒径を制御する処理工程と、を有することを特徴とする触媒の製造方法。
IPC (4件)：
B01J 37/12
, B01J 23/42 ZAB
, B01J 23/46 311
, B01J 37/16
B01J 37/12
, B01J 23/42 ZAB A
, B01J 23/46 311 A
, B01J 37/16
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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