特許
J-GLOBAL ID:200903002209302789

単層カーボンナノチューブの開孔方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-286095
公開番号(公開出願番号):特開2002-097008
出願日: 2000年09月20日
公開日(公表日): 2002年04月02日
要約:
【要約】【課題】 単層カーボンナノチューブを用いたデバイス材料等の高機能材料の開発に有用で、その管壁にも開孔できる、簡便で新しい単層カーボンナノチューブの開孔方法を提供する。【解決手段】 単層カーボンナノチューブを200〜600°Cの乾燥反応性ガス中に1分以上保持することで、単層カーボンナノチューブに直径1〜2nmの孔を開孔する。
請求項(抜粋):
単層カーボンナノチューブを200〜600°Cの温度範囲の乾燥反応性ガス中に1分以上保持することで、単層カーボンナノチューブに直径1〜2nmの孔を開孔することを特徴とする単層カーボンナノチューブの開孔方法。
IPC (2件):
C01B 31/02 101 ,  B82B 3/00
FI (2件):
C01B 31/02 101 F ,  B82B 3/00
Fターム (2件):
4G046CB01 ,  4G046CC03
引用特許:
審査官引用 (2件)

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