特許
J-GLOBAL ID:200903002215657386

プラズマ処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 孝一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-269211
公開番号(公開出願番号):特開2001-087643
出願日: 1999年09月22日
公開日(公表日): 2001年04月03日
要約:
【要約】【課題】 装置全体の小型化、多種多様な被処理物に対する適用性の拡充及び生産プロセスのインラインへの組込みの容易性だけでなく、電極部構成を簡単にして製作コストの大幅な低減が図れ、しかも、所定の表面処理を適正均一にかつ非常に効率よく行なえるようにする。【解決手段】 中実帯板状に形成された高圧電極1とそれの厚み方向の両側に絶縁板2,2を挟んで対向配置された一対の接地電極3,3とを備え、高圧電極1の短辺方向の一端部分1Aを先端部ほど漸次接近するような傾斜面1a.1aを持つ略二等辺三角形状に形成する一方、中実内部に反応ガス供給通路6が形成されている接地電極3,3の幅方向一端部3A,3A側に、高圧電極1側の両側傾斜面1a,1aに対向させて放電ギャップ15,15及び放電ブラズマにより生成される化学的に活性な励起種を含むガス流の吹出し通路16,16を構成する傾斜面3a ́,3a ́が形成されている。
請求項(抜粋):
中実帯板状に形成されている高圧電極の厚み方向の両側にそれぞれ絶縁板を挟んで一対の接地電極が対向配置され、上記帯板状高圧電極の短辺方向の一端側部分は、その両側面が先端部に近付くほど漸次接近するような傾斜面となる略二等辺三角形状に形成されている一方、上記一対の接地電極の内部には、その長辺方向に沿わせて少なくともヘリウムまたは水素を含む不活性ガスと酸素またはフルオロカーボン系の含フッ素化合物ガスを含む反応性気体との混合反応ガスの供給通路が形成されているとともに、これら一対の接地電極の短辺方向の一端部側にはそれぞれ、上記高圧電極の略二等辺三角形状部分の両側傾斜面に対向させて放電ギャップ及び混合反応ガス吹出し通路を構成する傾斜面が形成され、かつ、それら一対の接地電極の傾斜面には上記反応ガス供給通路に連通接続するように各接地電極の長辺方向に間隔を隔てて形成した複数個の混合反応ガス吹出孔が開口され、また、上記高圧電極の略二等辺三角形状部分の両側傾斜面を含む全面及び一対の接地電極の傾斜面を含む全面のうちの少なくとも一方が絶縁体で被覆されており、上記複数個のガス吹出孔から上記両電極の傾斜面間に形成の両側放電ギャップ及び混合反応ガス吹出し通路に上記混合反応ガスを大気圧もしくは大気圧近傍圧力下で導入し通過させるとともに、上記両電極に高周波電圧を印加することにより、上記両側放電ギャップにグロー放電プラズマを発生させて該プラズマにより生成される化学的に活性な励起種を含むガス流を両側吹出し通路の下流側に設けた吹出し部から被処理物の表面に直線状に噴出するように構成していることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件):
B01J 19/08 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065
FI (3件):
B01J 19/08 E ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/302 B
Fターム (26件):
4G075AA22 ,  4G075AA30 ,  4G075CA47 ,  4G075EB41 ,  4G075FB04 ,  4K057DA16 ,  4K057DD01 ,  4K057DE06 ,  4K057DE14 ,  4K057DG16 ,  4K057DM02 ,  4K057DM09 ,  4K057DM37 ,  5F004AA14 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BB28 ,  5F004BC08 ,  5F004CA09 ,  5F004DA01 ,  5F004DA22 ,  5F004DA24 ,  5F004DA26 ,  5F004DB23 ,  5F004EB08

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