特許

J-GLOBAL ID：200903002236263450

ステージの調整方法、及び該方法を使用する走査型露光装置

発明者： 上田 稔夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-027999
公開番号（公開出願番号）：特開平11-233403
出願日： 1998年02月10日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：

【要約】【課題】 レチクル等が載置されたステージを所定の走査方向に駆動すると共に、ほぼその走査方向に細長い移動鏡を用いてそのステージの非走査方向への位置を制御する場合に、その移動鏡の反射面をその走査方向に平行に設定する。【解決手段】 粗動ステージ上に機械的なリンク機構を持つこと無く、レチクルを保持する微動ステージ4が載置され、微動ステージ4はリニアモータ21XA,21XB等によって駆動される。微動ステージ4の走査方向(Y方向)の位置はレーザビームLRR,LRLによって計測され、非走査方向(X方向)の位置は移動鏡8Xに入射するレーザビームLRXによって計測されている。微動ステージ4をストッパー24A,24Bに付勢した状態でY方向に距離Lだけ移動したときの、レーザビームLRXによる計測値の差分Δxより、移動鏡8Xの傾斜角θを算出し、その傾斜角θを相殺するように微動ステージ4を回転する。

請求項（抜粋）：

マスク、又は基板が載置された状態で所定方向に駆動されるステージと、該ステージに固定された移動鏡と、該移動鏡に計測用の光ビームを照射することによって該移動鏡の前記所定方向に交差する方向の位置を検出する干渉計と、を用いて、前記マスク及び前記基板を同期して移動することにより、前記マスクのパターンを前記基板上に転写する走査型露光装置の前記ステージの調整方法において、前記ステージを前記所定方向に駆動して前記干渉計の計測値の変化量を計測し、該変化量に基づいて前記移動鏡の反射面が前記所定方向に実質的に平行になるように前記ステージの回転角を設定することを特徴とするステージの調整方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

H01L 21/30 516 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 K ,  H01L 21/30 518