特許
J-GLOBAL ID：200903002237917209
ペリクル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-282004
公開番号（公開出願番号）：特開平6-130654
出願日： 1992年10月20日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：
【要約】【目的】半導体装置や液晶表示装置等の膜のパターン形成に使用される露光用のマスク(レチクルを含む)を保護するためのペリクルに関し、マスクを覆った後でのパターン欠陥を生じさせないこと。【構成】マスク2のパターン領域を囲む位置に接着され、かつ、少なくとも内周面が鏡面に形成された枠体3と、前記枠体3のうち前記マスク2との接着面と反対側に張り付けられて前記枠体3の開口部を閉塞する薄膜4とを含む。
請求項（抜粋）：
マスク(2)のパターン領域を囲む位置に接着され、かつ、少なくとも内周面が鏡面に形成された枠体(3)と、前記枠体(3)のうち前記マスク(2)との接着面と反対側に張り付けられて前記枠体(3)の開口部を閉塞する薄膜(4)とを有することを特徴とするペリクル。
IPC (2件)：
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