特許

J-GLOBAL ID：200903002256867662

ガス処理用装置およびカートリッジ

発明者： 岡澤 昌毅 ,  西口 敏司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-434538
公開番号（公開出願番号）：特開2005-186041
出願日： 2003年12月26日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：

【課題】 プラズマ放電によるガス処理が効率的に行えるガス処理用装置およびガス処理用装置に搭載するカートリッジを提供する。【解決手段】 放電電極表面に凸形状を設ける。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

一対の電極と、前記一対の電極間に配置される多孔質の誘電体とを有し、前記一対の電極間にプラズマ放電を発生させることでプラズマ空間を通過する処理対象ガスを処理するガス処理用装置において、前記一対の電極のうちの高電圧印加側の電極は表面に凸形状を有する棒状の放電電極であることを特徴とするガス処理用装置。

IPC (7件)：

B01D53/56 ,  B01D53/38 ,  B01D53/46 ,  B01D53/58 ,  B01D53/74 ,  B01J19/08 ,  H05H1/24

FI (6件)：

B01D53/34 129C ,  B01J19/08 E ,  H05H1/24 ,  B01D53/34 131 ,  B01D53/34 116Z ,  B01D53/34 121Z

Fターム (13件)：

4D002AA01 ,  4D002AA12 ,  4D002AA13 ,  4D002AC04 ,  4D002AC10 ,  4D002BA07 ,  4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075CA47 ,  4G075EC21 ,  4G075FA05 ,  4G075FC15

引用特許：

出願人引用 (2件)

• プラズマ化学反応装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-180282   出願人：株式会社東芝
• 有害ガス処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-110762   出願人：三菱重工業株式会社