特許

J-GLOBAL ID：200903002260778798

汚染除去方法

発明者： リー,リン ,  スペンサー,ジュリアン ティモシー
出願人/特許権者： ブリティッシュ ヌークリア フューエルズ ピーエルシー
代理人 (1件)： 伊東 忠彦 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-501808
公開番号（公開出願番号）：特表平10-502166
出願日： 1995年06月15日
公開日（公表日）： 1998年02月24日
要約：

【要約】レーザービームを有機物質に照射して有機物質の化学変化を生じせしめ、又はレーザーにより発生する化学変化により直接に有機物質を除去することを含む、対象物の表面上の有機物質に埋没している汚染物質を対象物の表面から除去する方法。

請求項（抜粋）：

レーザービームを有機物質に照射し、前記有機物質に化学変化を生じせしめ、又はレーザーによって生じる化学変化により有機物質を直接除去することを含む、対象物の表面上の有機物質に埋没した汚染物質を対象物の表面から除去する方法。

IPC (9件)：

G21F 9/28 551 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01J 19/12 ,  B08B 7/00 ,  B63B 59/06 ,  C08J 3/28 ,  G21F 9/28 ZAB ,  A01G 7/00 604 ,  A47L 11/38

FI (9件)：

G21F 9/28 551 A ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01J 19/12 F ,  B08B 7/00 ,  B63B 59/06 Z ,  C08J 3/28 ,  G21F 9/28 ZAB ,  A01G 7/00 604 ,  A47L 11/38