真空蒸着装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-264432
公開番号（公開出願番号）：特開2008-081809
出願日： 2006年09月28日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：

【課題】本発明は、このような実情に鑑み、ターゲットと蒸気の供給口との距離を自由に調整できるようにして蒸気問題を解決することを目的とする。また、間隔の如何にかかわらず良好な蒸着が可能なようにすることを目的とする。【解決手段】本発明の真空蒸着装置は、前記坩堝とこれを底部に配置した蒸気案内管とを内部に収納した伸縮管を前記チャンバーに対し密封状に固定するとともに、前記伸縮管の長さを調整する機構を有し、当該長さ調整機構により、前記蒸気案内管の先端と前記ターゲットとの距離を遠近調整可能にした蒸気供給構造を設けたことを特徴とする構成を採用した。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空チャンバー内にターゲットを配置し、当該ターゲットに対し坩堝から発生した所望材料の蒸気を導き、前記ターゲットに蒸着させる真空蒸着装置であって、前記坩堝とこれを底部に配置した蒸気案内管とを内部に収納した伸縮管を前記チャンバーに対し密封状に固定するとともに、前記伸縮管の長さを調整する機構を有し、当該長さ調整機構により、前記蒸気案内管の先端と前記ターゲットとの距離を遠近調整可能にした蒸気供給構造を設けたことを特徴とする真空蒸着装置

IPC (1件)：

C23C 14/24

FI (1件)：

C23C14/24 A

Fターム (4件)：

4K029CA01 , 4K029DB12 , 4K029DB14 , 4K029DB18

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平4-160147
分子線結晶成長装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-185296 出願人：三菱電機株式会社
特開昭62-235464

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