特許

J-GLOBAL ID：200903002264190043

コンデンサの製造方法

発明者： 工 藤 康 夫 ,  赤 見 研 二 ,  小 島 利 邦 ,  松 屋 安 恵
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 蔵合 正博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-118930
公開番号（公開出願番号）：特開平10-308327
出願日： 1997年05月09日
公開日（公表日）： 1998年11月17日
要約：

【要約】【課題】 化学重合によって得られる導電性高分子を少なくても一方の電極もしくは電解質として用いたコンデンサの製造方法の関し、誘電体表面近傍において支配的に導電性高分子層を形成し、もってコンデンサの製法を容易にすることを目的とする。【解決手段】 コンデンサ素子を液体酸化剤もしくは酸化剤溶液に浸漬処理する工程と、貧溶媒に浸漬処理するかまたは酸化剤溶媒の水素イオン濃度を変化させることにより酸化剤を析出させる工程と、重合により導電性高分子を形成可能なモノマー溶液で処理し、前記モノマーを繰り返し単位として含む導電性高分子を前記酸化剤を用いて化学重合する工程とを有するコンデンサの製造方法である。

請求項（抜粋）：

電極間に誘電体層を形成する誘電体層形成工程と、対向した一対の電極を配置する工程と、前記電極の少なくとも一方の誘電体表面を重合性モノマーを重合可能な酸化剤溶液を用いて処理する工程と、前記酸化剤溶液で処理された電極を貧溶媒を用いて処理する工程と、重合可能なモノマーまたはモノマー溶液で処理し、前記モノマーを繰り返し単位として含む導電性高分子層を、前記酸化剤を用いて化学重合により形成する化学重合工程とを有するコンデンサの製造方法。

IPC (2件)：

H01G 9/028 ,  H01G 4/18 311

FI (2件)：

H01G 9/02 331 H ,  H01G 4/18 311 Z