特許
J-GLOBAL ID：200903002266740938
磁気記録媒体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-019449
公開番号（公開出願番号）：特開2000-215443
出願日： 1999年01月28日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：
【要約】【課題】 磁気ディスク基板の表面に、間隔および深さを精密に制御したテクスチャを形成することができ、基板と媒体の密着力の向上やヘッド-ディスクのインターフェイスにおける接触の改善などの高信頼性を有する磁気ディスクを得る。また、テクスチャと磁性膜とを同時に形成できること、さらに、積層数の低減が図れるので製造プロセスの簡素化が図れ、ディスク価格の低減が図れる。【解決手段】 ディスク基板上に、酸化クロム、酸化鉄あるいは酸化ニッケルの内より選ばれる1種類の酸化物からなる結晶粒子と該結晶粒子の結晶粒界に析出した酸化シリコン、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタルあるいは酸化亜鉛の内より選ばれる少なくとも1種類の酸化物とを有する無機化合物膜を形成し、該無機化合物膜に還元処理を行うことにより前記結晶粒子に磁性を発現させて磁気記録媒体を製造する。
請求項（抜粋）：
ディスク基板上に、酸化クロム、酸化鉄あるいは酸化ニッケルの内より選ばれる1種類の酸化物からなる結晶粒子と該結晶粒子の結晶粒界に析出した酸化シリコン、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタルあるいは酸化亜鉛の内より選ばれる少なくとも1種類の酸化物とを有する無機化合物膜を形成し、該無機化合物膜に還元処理を行うことにより前記結晶粒子に磁性を発現させることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Fターム (6件)：
5D112AA05
, 5D112AA24
, 5D112BB01
, 5D112GA02
, 5D112GA05
, 5D112GA27
