特許
J-GLOBAL ID:200903002270252581

スパッタリング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石原 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-182315
公開番号(公開出願番号):特開平11-021667
出願日: 1997年07月08日
公開日(公表日): 1999年01月26日
要約:
【要約】【課題】 スパッタリング時の基板位置決めによるスパッタリング前後での基板の位置ずれを規正して高い信頼性をもって基板を搬送する。【解決手段】 真空容器1内に、水平な基板載置位置と上方に傾動したスパッタ位置との間で揺動可能でかつスパッタ時に基板8の下端を支持して位置決めする位置決め手段13を設けた基板取付台6と、スパッタ位置の基板8と対向するターゲット及びスパッタ電極と、基板取付台6上とその上方の受け渡し位置との間で基板8を支持ピン7上端で支持して昇降させる基板昇降台14とを備えたスパッタリング装置において、基板昇降台14の上昇に伴って作動して支持ピン7上に支持された基板8を所定の位置に位置決めする位置規正手段17を設けた。
請求項(抜粋):
真空容器内に、水平な基板載置位置と上方に向けて傾動したスパッタ位置との間で揺動可能でかつスパッタ位置でその下部になる位置に基板の下端を支持して位置決めする位置決め手段を設けた基板取付台と、スパッタ位置の基板と平行に対向するようにスパッタリング材料のターゲットを取付けたスパッタ電極と、基板載置位置の基板取付台の上面位置とその上方の受け渡し位置との間で基板を支持ピン上端で支持して昇降させる基板昇降台と、基板昇降台の上昇に伴って作動して支持ピン上に支持された基板を所定の位置に位置決めする位置規正手段とを備えたことを特徴とするスパッタリング装置。
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開平3-034345

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