特許

J-GLOBAL ID：200903002295979346

スルホキシド化合物の製造方法

発明者： 桐原 正之 ,  野口 拓也
出願人/特許権者： 財団法人浜松科学技術研究振興会
代理人 (1件)： 朝日奈 宗太
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-053381
公開番号（公開出願番号）：特開2008-214257
出願日： 2007年03月02日
公開日（公表日）： 2008年09月18日
要約：

【課題】触媒を実質的に使用することなく、短時間で高収率のスルホキシド化合物を得ながら、スルホン化合物の副生を実質的に伴わない、効率的な製造方法を提供する。【解決手段】過酸化物溶液および溶媒に溶解したスルフィド化合物溶液を、それぞれの供給路を通して反応流路内に供給し、高速混合する。反応流路としては、マイクロリアクターを使用することができる。反応流路の等価直径は1mm以下であることが好ましい。【選択図】図1

請求項１：

一般式(1) R1-S-R2(1) (式中、R1およびR2は、同一または異なって、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基または置換基を有してもよいアルケニル基を表す)で示されるスルフィド化合物より、過酸化物の存在下でスルホキシド化合物を製造する方法であって、過酸化物溶液および溶媒に溶解したスルフィド化合物溶液を、それぞれの供給路を通して反応流路内に供給し、該反応流路内で該スルフィド化合物よりスルホキシド化合物を生成させることを特徴とするスルホキシド化合物の製造方法。

IPC (5件)：

C07C 315/02 ,  C07C 317/04 ,  C07C 317/14 ,  C07C 317/22 ,  C07B 61/00

FI (5件)：

C07C315/02 ,  C07C317/04 ,  C07C317/14 ,  C07C317/22 ,  C07B61/00 C

Fターム (11件)：

4H006AA02 ,  4H006AC62 ,  4H006BB11 ,  4H006BB21 ,  4H006BB25 ,  4H006BC10 ,  4H006BC18 ,  4H006BC31 ,  4H006BD80 ,  4H006BE32 ,  4H006TA01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• スルホン化合物またはスルホキシド化合物の製造方法とその触媒
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-345107   出願人：住友化学工業株式会社