特許
J-GLOBAL ID：200903002299013225
プロセスフロー作成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-017794
公開番号（公開出願番号）：特開平6-232019
出願日： 1993年02月05日
公開日（公表日）： 1994年08月19日
要約：
【要約】【目的】 処理条件をキーにした検索が可能なプロセスフロー作成方法を提供することを目的とする。【構成】 処理条件登録手段10では工程を作成するための処理条件群を登録し、工程作成手段20では処理条件群を組み合わせて工程を作成する。プロセスフロー作成手段30では工程群を組み合わせてプロセスフローを作成する。プロセスフロー検索手段40では処理条件をキーにプロセスデータを検索する。
請求項（抜粋）：
複数の関連する半導体製造工程の処理条件を規定するプロセスフロー作成に際し、各製造工程の各々の処理条件群を登録し、前記処理条件群を組み合わせて各工程の処理条件を作成し、前記工程群を組み合わせてプロセスフローを作成するプロセスフロー作成方法。
引用特許：
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