特許
J-GLOBAL ID:200903002313809607
表面観察方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-091181
公開番号(公開出願番号):特開平9-281124
出願日: 1996年04月12日
公開日(公表日): 1997年10月31日
要約:
【要約】【解決手段】 原子間力顕微鏡(AFM)により高分子表面を観察する際に、該高分子表面に金属を含むプラズマによる表面処理を行う表面観察方法。【効果】 原子間力顕微鏡により高分子表面の形態を大気圧中で極めて明確にかつ鮮明に観察できる。
請求項1:
原子間力顕微鏡(AFM)により高分子表面を観察する際に、該高分子表面に金属を含むプラズマによる表面処理を行う表面観察方法。
IPC (3件):
G01N 37/00
, G01B 21/30
, G01N 1/28
FI (4件):
G01N 37/00 F
, G01B 21/30 Z
, G01N 1/28 N
, G01N 1/28 F
引用特許:
出願人引用 (8件)
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原子間力顕微鏡用試料作成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-204126
出願人:キヤノン株式会社
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イオンスパッタ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-087960
出願人:株式会社真空デバイス
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特公平6-103177
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特許第3447175号
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薄膜製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-212457
出願人:三井東圧化学株式会社
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特開平3-274261
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多層膜厚さ基準物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-200085
出願人:鐘淵化学工業株式会社
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表面観察装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-038104
出願人:株式会社日立製作所
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審査官引用 (3件)
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原子間力顕微鏡用試料作成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-204126
出願人:キヤノン株式会社
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イオンスパッタ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-087960
出願人:株式会社真空デバイス
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特公平6-103177
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