特許

J-GLOBAL ID：200903002316528048

新規なシアネートエステルとその製造方法

発明者： 戸田 一隆 ,  今野 博
出願人/特許権者： 株式会社緑化学研究所
代理人 (1件)： 牧野 逸郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-426964
公開番号（公開出願番号）：特開2005-187335
出願日： 2003年12月24日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：

【課題】それ自体では高い貯蔵安定性を有すると共に、これを原料とすることによって光透過性と耐熱性にすぐれ、誘電率と誘電正接の値が低く、しかも、高屈折率を有し、従って、例えば、光技術の用途において有用なプラスチックを与える新規なシアネートエステルとその製造方法を提供する。【解決手段】本発明によれば、一般式(I)【化1】(式中、Rはフルオレニリデン基又はp-ビフェニルメチリデン基を示す。)で表されるシアネートエステルが提供される。このようなシアネートエステルは、一般式(II)【化2】(式中、Rはフルオレニリデン基又はp-ビフェニルメチリデン基を示す。)で表されるビスフェノールと一般式(III)【化3】(式中、Xはハロゲン原子を示す。)で表されるハロゲン化シアンとを反応させることによって得ることができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

一般式(I)

IPC (2件)：

C07C261/02 ,  C08G73/06

FI (2件)：

C07C261/02 ,  C08G73/06

Fターム (13件)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB46 ,  4H006AB84 ,  4H006AC59 ,  4J043PA01 ,  4J043QC14 ,  4J043RA03 ,  4J043RA47 ,  4J043SA13 ,  4J043UA15 ,  4J043ZA52 ,  4J043ZB21