特許

J-GLOBAL ID：200903002323291355

光学部品の製造方法

発明者： 是永 継博 ,  内田 真司 ,  黒川 英雄
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-006272
公開番号（公開出願番号）：特開平5-188204
出願日： 1992年01月17日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】【目的】 イオンによる洗浄が不可能な基板をレ-ザ-照射、もしくは基板と同一材料膜を成膜した後、イオンアシスト成膜、あるいはイオン化成膜を行うことで特性および耐久性に優れた光学部品を得る。【構成】 イオン、プラズマ衝撃にてダメ-ジを受ける基板21上に光学多層膜を成膜する際、基板を透過する波長をもつレ-ザ-光にて清浄化、もしくは基板と同一組成膜22を真空蒸着などのイオン、プラズマの影響のないプロセスにて成膜した後、目的の多層膜の第1層膜23を同じくイオン、プラズマの影響のないプロセスにて成膜し、第2層膜以降24をイオンアシスト成膜法、あるいはイオン化成膜法にて成膜する。

請求項（抜粋）：

イオン衝撃、あるいはプラズマ衝撃にて、光学特性が劣化する基材に多層膜を形成する方法において、前記基材にこれを透過する波長を有するレ-ザ-を照射した後、前記多層膜の第1層膜を真空蒸着法にて成膜し、第2層膜以降をイオン化成膜法、もしくはイオンアシスト成膜法にて成膜することを特徴とする光学部品の製造方法。