特許

J-GLOBAL ID：200903002334827370

露光装置および半導体製造方法

発明者： 江渡 良 ,  宮地 剛司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-114247
公開番号（公開出願番号）：特開平10-289875
出願日： 1997年04月16日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：

【要約】【課題】 露光量を均一にするシャッタの性能を向上させる。【解決手段】 X線L1 はシリンドリカルミラー2によってY軸方向に拡大され、シャッタ10を通ってウエハステージ4上のウエハを露光する。シャッタ10は、下縁11aが先行エッジとなる第1のシャッタ幕11と、上縁12aが後行エッジとなる第2のシャッタ幕12を有し、各シャッタ幕11,12はリニアモータ13,14によって直線的に駆動される。ベルト等を用いる場合に比べて、駆動部が簡単で、速度制御の信頼性や応答性が高い。

請求項（抜粋）：

露光光によって露光される基板を保持する基板保持手段と、前記基板の露光量を均一にするための露光量制御手段を有し、該露光量制御手段が、前記露光光の光路を横切って所定の方向に移動自在である遮蔽手段と、これを移動させるリニアモータを備えていることを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 1/04 ,  G21K 5/02

FI (4件)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 1/04 S ,  G21K 5/02 X