特許
J-GLOBAL ID：200903002346524870
偏光ビームスプリッタ及びその製造方法並びに光ピックアップ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
家入 健
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-087050
公開番号（公開出願番号）：特開2005-276306
出願日： 2004年03月24日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
【課題】 P偏光の透過帯域のリップルを低減することができる膜構造を持つ偏光ビームスプリッタを提供すること【解決手段】 本発明にかかる偏光ビームスプリッタは、光学基板1上に高屈折率膜2および低屈折率膜3を交互に積層してなる多層膜(偏光ビームスプリッタ膜4)を有しており、前記多層膜を有する面に空気面から入射する第一の光源6の光を反射し、前記多層膜を有する面とは反対の光学基板面に入射する第二の光源7の光を透過するものである。さらに、偏光ビームスプリッタ膜4の積層数Nは16≦N≦40の範囲内であり、光学膜厚比D/M(M:全ての積層膜の光学膜厚平均、D:各層の光学膜厚)の分布は0.5≦D/M≦2.5の範囲内であり、光学基板1の偏光ビームスプリッタ膜4を設ける側の表面に対して測定点間距離が100nm以下の測定点を測定することにより得られる平均表面粗さが0.50nm以下となるものである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光学基板上に少なくとも2種類の屈折率の異なる光学薄膜を交互に積層してなる多層膜を有しており、前記多層膜を有する面に空気面から入射する第一の波長の光を反射し、前記多層膜を有する面とは反対の光学基板面に入射する第二の波長の光を透過する偏光ビームスプリッタであって、
前記多層膜の積層数Nは16≦N≦40の範囲内であり、
前記多層膜を構成する全ての積層膜の光学膜厚平均をM、各層の光学膜厚をDとしたとき、光学膜厚比D/Mの分布は0.5≦D/M≦2.5の範囲内であり、
前記光学基板の前記光学薄膜を設ける側の表面に対して測定点間距離が100nm以下の測定点を測定することにより得られる平均表面粗さが0.50nm以下である偏光ビームスプリッタ。
IPC (4件)：
G11B7/135
, G02B5/26
, G02B5/28
, G02B5/30
G11B7/135 A
, G02B5/26
, G02B5/28
, G02B5/30
2H048FA09
, 2H048FA15
, 2H048FA24
, 2H048GA12
, 2H048GA33
, 2H049BA05
, 2H049BA43
, 2H049BB65
, 2H049BC21
, 5D789AA41
, 5D789AA50
, 5D789FA08
, 5D789JA12
出願人引用 (1件)
-
光ピックアップ装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-286471
出願人：株式会社リコー
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