特許
J-GLOBAL ID：200903002352034957

電子ビーム露光装置、露光方法、及び半導体素子製造方法

発明者：
黒川 正樹

黒川 正樹 について


出願人/特許権者：
株式会社アドバンテスト

株式会社アドバンテスト について


代理人 (1件)： 龍華 明裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-304234
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110531
出願日： 2000年10月03日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：
【要約】【課題】 ウェハにパターンを精度よく露光することができる電子ビーム露光装置、露光方法、及び半導体素子製造方法を提供する。【解決手段】 電子ビームによりウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置であって、ウェハが載置されるウェハステージと、ウェハステージを第1の方向に案内する第1のステージガイドと、第1の方向と交差する第2の方向にウェハステージを案内する第2のステージガイドとを備え、ウェハステージの移動方向は、第1の方向及び第2の方向と角度をなす。
請求項（抜粋）：
電子ビームによりウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置であって、前記ウェハが載置されるウェハステージと、前記ウェハステージを第1の方向に案内する第1のステージガイドと、前記第1の方向と交差する第2の方向に前記ウェハステージを案内する第2のステージガイドとを備え、前記ウェハステージの移動方向は、前記第1の方向及び前記第2の方向と角度をなすことを特徴とする電子ビーム露光装置。
IPC (6件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/305 ,  H01L 21/68
FI (7件)：
G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00 A ,  H01J 37/20 Z ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/68 K ,  H01L 21/30 541 L ,  H01L 21/30 503 A
Fターム (15件)：
2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  2H097KA29 ,  2H097LA10 ,  5C001AA01 ,  5C034BB07 ,  5F031CA02 ,  5F031KA06 ,  5F031MA27 ,  5F046CC01 ,  5F046CC13 ,  5F046CC16 ,  5F056CB21 ,  5F056EA08 ,  5F056EA14
引用特許：
審査官引用 (6件)
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