特許

J-GLOBAL ID：200903002356055096

液化ガス貯槽の導入管

発明者： 高田 昌典 ,  扇 弘將
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社 ,  大阪瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-298759
公開番号（公開出願番号）：特開平9-142576
出願日： 1995年11月16日
公開日（公表日）： 1997年06月03日
要約：

【要約】【課題】 周囲ガスの巻き込みにより、貯槽内のガス圧が低下するのを防止することのできる液化ガス貯槽の導入管を提供する。【解決手段】 液化ガス貯槽1の内部に垂直に配設され、上端12Aから投入される液化ガス4を貯槽1の底部近傍に開口する下端12Bから貯槽1内に流し込む液化ガス貯槽の導入管12において、高さ方向中間部の管内に、上端12Aから下端12Bに落下する液化ガスに対し流通抵抗を与える可変抵抗体15を少なくとも一つ配設すると共に、管外に、貯槽1内の液面レベルが可変抵抗体15の設置レベルより低いとき可変抵抗体15を抵抗大の位置に設定し、貯槽1内の液面レベルが可変抵抗体15の設置レベルより高いとき可変抵抗体15を抵抗小の位置に設定するフロート式の調節機構16を設けた。

請求項（抜粋）：

液化ガス貯槽の内部に垂直に配設され、上端から投入される液化ガスを貯槽底部近傍に開口する下端から貯槽内に流し込む液化ガス貯槽の導入管において、高さ方向中間部の管内に、上端から下端に落下する液化ガスに対し流通抵抗を与える可変抵抗体を少なくとも一つ配設すると共に、管外に、貯槽内の液面レベルが前記可変抵抗体の設置レベルより低いとき前記可変抵抗体を抵抗大の位置に設定し、貯槽内の液面レベルが前記可変抵抗体の設置レベルより高いとき前記可変抵抗体を抵抗小の位置に設定する調節機構を設けたことを特徴とする液化ガス貯槽の導入管。