特許
J-GLOBAL ID:200903002357966262

真空蒸着法およびディスプレイ製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 船橋 國則
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-365975
公開番号(公開出願番号):特開2000-192229
出願日: 1998年12月24日
公開日(公表日): 2000年07月11日
要約:
【要約】【課題】 少ない工程数で高精度なパターンニングを行うようにすること。【解決手段】 本発明は、蒸着を行うガラス基板1に対向して、複数の蒸発源S1〜S3を所定の間隔で配置する工程と、スリット2aの形成されたマスク2をガラス基板1と複数の蒸発源S1〜S3との間に配置する工程と、複数の蒸発源S1〜S3から蒸発物質を出射し、マスク2のスリット2aを介してガラス基板1上の各々異なる位置に各蒸発物質を付着させる工程とを備えている。
請求項(抜粋):
蒸着を行う基板に対向して、複数の蒸発源を所定の間隔で配置する工程と、スリットの形成されたマスクを前記基板と前記複数の蒸発源との間に配置する工程と、前記複数の蒸発源から蒸発物質を出射し、前記マスクのスリットを介して前記基板上の各々異なる位置に各蒸発物質を付着させる工程とを備えていることを特徴とする真空蒸着法。
IPC (5件):
C23C 14/24 ,  G09F 9/30 337 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14
FI (5件):
C23C 14/24 S ,  G09F 9/30 337 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A
Fターム (33件):
3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA07 ,  4K029BA62 ,  4K029BC09 ,  4K029CA01 ,  4K029DB14 ,  4K029HA04 ,  5C094AA05 ,  5C094AA43 ,  5C094AA44 ,  5C094AA48 ,  5C094BA12 ,  5C094BA29 ,  5C094CA18 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094EA05 ,  5C094EB02 ,  5C094FA01 ,  5C094FA02 ,  5C094FB01 ,  5C094FB02 ,  5C094FB03 ,  5C094FB12 ,  5C094GB10

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