特許

J-GLOBAL ID：200903002370286823

シンチレータの加工方法

発明者： 桑原 由則 ,  流王 俊彦
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小宮 良雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-186429
公開番号（公開出願番号）：特開平5-027041
出願日： 1991年07月25日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：

【要約】【目的】 加工時間が短く、加工経費が低廉であるとともに、従来のシンチレータと同等の特性が確保されたシンチレータの加工方法を提供する。【構成】 Bi4Ge3O12結晶2の表面のうち、少なくともシンチレーション光の出射面2aを固定砥粒を用いた切削機で鏡面加工する。

請求項（抜粋）：

Bi4Ge3O12結晶の表面のうち、少なくともシンチレーション光の出射面を固定砥粒を用いた切削機で鏡面加工することを特徴とするシンチレータの加工方法。

IPC (3件)：

G01T 1/20 ,  A61B 6/03 320 ,  B24B 7/22

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-109975
  
• 特開昭57-194374