特許

J-GLOBAL ID：200903002380335091

感放射線性組成物

発明者： 田村 一貴
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-303204
公開番号（公開出願番号）：特開2002-107932
出願日： 2000年10月03日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：

【要約】【課題】非常に微細なパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度な感放射線性組成物を得る。【解決手段】フッ素を含有する置換基を有するシロキサンポリマーおよび放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性組成物であり、またはフッ素を含有する置換基を有するシロキサンポリマーおよび放射線の照射によって塩基を発生する塩基発生剤を含有することを特徴とする感放射線性組成物。

請求項（抜粋）：

フッ素を含有する置換基を有するシロキサンポリマーおよび放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/038 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 83/08 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/038 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 83/08 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 503 B ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (28件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF07 ,  2H025BF30 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002CP081 ,  4J002EB116 ,  4J002EB126 ,  4J002EN006 ,  4J002EN136 ,  4J002EQ016 ,  4J002ER006 ,  4J002ES006 ,  4J002EU136 ,  4J002EU186 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV266 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206