特許

J-GLOBAL ID：200903002389885299

液晶表示装置の製造方法

発明者： 梁井 健一 ,  和田 保 ,  甫立 真理 ,  田中 勉 ,  瀧澤 裕 ,  沖 賢一
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 柏谷 昭司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-323527
公開番号（公開出願番号）：特開平7-181515
出願日： 1993年12月22日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：

【要約】【目的】 液晶表示装置の製造方法に関し、工程数の増加を招来することなく、ブラック・マトリクスを基板に形成できるようにし、しかも、開口率の向上及びコスト低減を両立させようとする。【構成】 ガラス基板21上にITO膜とCr膜とを積層形成してからパターニングを行って少なくともドレイン22及びドレイン・バス・ライン23及びソース24及び表示電極25を形成し、次いで、動作半導体層27及びゲート絶縁膜28及びゲート電極29及びゲート・バス・ラインを形成し、次いで、全面に黒色樹脂膜30を形成してからパターニングを行ってパターン、即ち、ブラック・マトリクス或いはその一部を形成し、次いで、黒色樹脂膜30のパターンをマスクとして前記表示電極25に於けるCr膜を除去して透明化する。

請求項（抜粋）：

基板上に透明導電膜と金属膜とを積層形成してからパターニングを行って少なくともドレイン及びドレイン・バス・ライン及びソース及び表示電極を形成する工程と、次いで、動作半導体層及びゲート絶縁膜及びゲート及びゲート・バス・ラインを形成する工程と、次いで、全面に黒色樹脂膜を形成してからパターニングを行ってパターンを形成する工程と、次いで、前記黒色樹脂膜パターンをマスクとして前記表示電極に於ける金属膜を除去する工程とが含まれてなることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。

IPC (3件)：

G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1335 500 ,  H01L 29/786